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分享臺式離子研磨拋光儀研磨系統的組成

 更新時間:2023-08-03 點擊量:1496
臺式離子研磨拋光儀 SEMPrep2 作為新一代的高精密氬離子研磨系統,可以滿足研究人員苛刻的研磨需求。集成式多功能截面拋削以及無損平面拋光系統,為 SEM 以及 EBSD 用戶提供好的制樣助力。
臺式離子研磨拋光儀的研磨系統主要由以下幾個部分組成:  
1.研磨盤:研磨盤是臺式離子研磨拋光儀的核心部件,通常由金屬材料制成,表面具有一定的粗糙度。研磨盤上可以安裝研磨紙或研磨布,用于進行研磨和拋光操作。  
2.研磨液供給系統:研磨液供給系統用于提供研磨液,研磨液通常由水和研磨劑混合而成。研磨液的作用是冷卻研磨盤和樣品,同時還可以起到清潔和潤滑的作用。  
3.研磨頭:研磨頭是連接研磨盤和樣品的部件,通常由金屬材料制成。研磨頭可以調節研磨盤和樣品之間的接觸力和研磨速度,以達到不同研磨要求。  
4.控制系統:控制系統用于控制研磨盤和樣品的運動,包括研磨盤的轉速、樣品的旋轉和移動等。控制系統還可以設置研磨時間和研磨力度等參數,以滿足不同的研磨需求。  
5.真空系統:真空系統用于在研磨過程中排除空氣,以減少樣品表面的氧化和污染。真空系統通常包括真空泵和真空室,可以通過控制真空度來調節研磨過程中的氣氛。  
6.監測系統:監測系統用于監測研磨過程中的參數,如研磨力度、研磨速度、研磨溫度等。監測系統可以通過傳感器和儀器來實現,可以實時監測和記錄研磨過程中的數據。  
以上就是臺式離子研磨拋光儀的研磨系統的主要組成部分,不同廠家和型號的儀器可能會有所差異,但基本原理和功能是相似的。

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